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分別介紹如下：

電子束直接描畫DFB列陣：

將多個DFB雷射製作在同一晶片上形成多波長列陣時，每個單元DFB雷射的光柵可用電子束光刻(Electron-beam lithography)直接描畫的方法在電子束光刻膠(e-beam resist)上曝光而形成光柵的方法製成。

聚焦離子束直接光刻法：

將聚焦離子束(Focused Ion Bean)直接描畫的方法定義了雷射光柵的週期，製作了多波長列陣。

相位掩膜光柵製作法：

先用電子束光刻或離子束光刻法把雷射光柵圖紋做在石英基板上，並腐蝕加工，若石英板上沒有金屬膜暗場而只有光柵狀溝槽以造成光程差距，則是相移掩膜(Phase mask)。

改變光柵有效折射率法：

這是種經濟便宜的WDM雷射列陣製作方法，它是在脊型波導型半導體雷射中共振型的有效折射率隨脊高和脊寬變化，如果把脊寬不同的DFB雷射做成一排便可獲得多波長DFB列陣。

MAGIC雷射列陣：

MAGIC(multistripe Array Grating Integrated cauify)為多條型列陣與光柵集成共振腔，它是由多個條型F-P雷射單元，加上依各平面波導形光柵組成。

波導光柵雷射列陣：

在一塊較大的基板上形成波導光柵亦可製成多波長雷射列陣。

相信隨著信息高速公路飛速發展，WDM系列及所用器件技術會很快進步，WDM的標準已經開始被制訂，我公司也著這方面積極發展。